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VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11“ OD，爐管內載樣盤可放置3“ 的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達20?C/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1?C。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設備。
GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材和放置樣品的直徑是50mm . 旋轉樣品臺，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料，金靶，銀，銅, 它可以與真空泵，不銹鋼波紋管KFD25快速卸裝卡箍相連用.
MSK-AFA-III是一款帶有自動烘干功能的小型涂覆機，通過勻速地推動精密制膜器，已達到平滑和均勻的涂覆效果。儀器采用真空吸附來固定襯底，使得涂覆過程中襯底不會起褶，從而使得涂覆更加順暢。涂覆過后，儀器上蓋可對樣品進行加熱烘干，Z高溫度可以達到200℃，控溫精度為+/-1°C。此款設備特別適合于固態(tài)電解質和鋰電池極片的制備。
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