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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
本公司提供高真空腔體，客戶可自行為一些實驗搭建真空系統(tǒng)，如等離子濺射，CVD或ALD等實驗，同時也可作為高真空儲存箱。
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒，其特點為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它可以精確控制溶液化學(xué)計量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個超聲波霧化器
EQ-TM106膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，結(jié)合先進(jìn)的頻率測量技術(shù)，進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測。主要應(yīng)用于MBE、OLED熱蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實時監(jiān)測。根據(jù)實時速率可以輸出PWM模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調(diào)節(jié)儀和蒸發(fā)電源配合實現(xiàn)蒸發(fā)源的閉環(huán)速率控制。
VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。
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